显微镜成像分离器
  • OptoSplit II
  • OptoSplit II BYPASS
  • OptoSplit III
  • OptoMask & OptoMask OC

简介

Optosplit II LS图像分离器是一种简单而优雅的设备,用于将图像分为两个独立的部分,并且可以在单个相机芯片上并排显示。

通常基于波长进行图像分离,应用于钙成像或FRET领域。两个图像可以同时捕获,相比手动或电子滤光片更换器具有更大的优势。 使用矩形孔径来定义要成像的区域,具有一组简单的控制器件,用户可以改变相机上的两个输出图像的相对位置。 Optosplit II可以显着扩大任何荧光成像系统的范围。

 

 

 

 

 

 

应用

  • 离子或电压成像
  • Förster共振能量转移(FRET)
  • 双探针宽视野显微镜
  • TIRF /旋转盘共焦
  • 荧光/透射光显微镜

主要优点

  • 适用于对角线高达22mm的传感器尺寸(例如5.5MPixel sCMOS)
  • 用户可配置滤光片立方体
  • 可选放大或缩小
  • 图像不分离模式
  • 独立的XY和聚焦控制
  • 可容纳ND滤镜或彩色校正镜
  • 标准光谱范围为450至900nm
  • 支持裁剪传感器模式

简介

OptoSplit II BP是双通道同时成像设备,可与单个相机一起使用。 它基于OptoSplit II的功能,但增加了一个方便的bypass模式,使其更适合于多用户显微镜。

在保持与OptoSplit II的兼容性的同时,BP版本支持我们的新滤光片立方体,并增强了长期稳定性,像素配准和重复性。它比OptoSplit II占地面积稍大,因此可以使用更长焦距的镜头,具有更好的离轴性能。

应用

  • Förster共振能量转移(FRET)
  • 钙,电压和pH成像
  • 同时多荧光探针成像
  • 全内反射荧光(TIRF)
  • 旋转盘共焦
  • 单平面照明显微镜(SPIM)
  • 超分辨率STORM / PALM / SIM
  • 偏振研究(各向异性)
  • 同时双重深度成像(使用独立镜头)
  • 3D超分辨率PALM / STORM(使用圆柱透镜)
  • 同时相位差/ DIC和荧光

主要优点

  • 集成C-mount输入和输出端口(可选T或F-mount)
  • 简单精确的图像配准控制
  • 可换滤光片/二向色架
  • 从分离切换到旁路
  • 所有表面上425nm至875nm镀膜
  • 1倍或1.3倍放大
  • 支持大型传感器(LS) – 16.6 x 14 mm

简介

Optosplit III三重图像分离器是将图像分为两个或三个独立的部分,可以在单个相机芯片上并排显示。

通常基于波长和/或偏振进行图像分离,适合需要同时或高速捕获多个图像或偏振状态的应用。

相比手动或电子滤光片更换器,三重图像分离器具有更多优点,在更换滤光片位置时不再需要暂停采集。 这样可以让您的相机以高速流模式运行,并降低对软件的需求。

应用

  • 三重荧光探针研究
  • 偏振Förster共振能量转移(pFRET)
  • 离子成像
  • 偏振研究
  • 相位对比和荧光
  • 多层次成像

主要优点

  • 适用于高达22mm对角线的传感器尺寸(例如5.5 MPixel sCMOS)
  • 分色镜和滤光片安装在容易易于更换的立方体中,用于两重或三重图像分离
  • 统一放大标准配置,其他选项可订做
  • XY和焦平面上对齐方便
  • N.D.过滤器或彩色校正透镜的更换支架
  • 旁路模式实现单波长成像(18mm对角线)
  • C-mount接口
  • 支持裁剪传感器模式

OptoMask简介

用于区域选择的可调视场屏蔽器。

C-mount和 C-mount精确孔径控制,用于高速裁剪模式成像。

在大多数应用中,光圈处于显微镜图像平面的中心或靠近其中心。 为了实现相机的快速“裁剪”和“动态”模式,有必要在图像平面的边缘准确屏蔽。 所以我们设计了OptoMask,在图像平面内的任何位置可以获得任意矩形区域。Optomask现在可以作为主要的光圈选择器安装在OptoSplit分离器上。

应用

  • 使用单分子检测相机(例如Ixon Ultra)进行高速裁剪模式成像
  • 与OptoSplit分离器和MultiCam多通道成像产品结合使用
  • 控制非空间检测的兴趣区域 ROI(如光电倍增管)
  • 高速TIRF /旋转盘共焦

主要优点

  • 传感器上任何地方的精确定位角度可达18mm对角线(例如Ixon + 888)
  • 从裁剪到全传感器模式即时切换
  • 全范围放大和缩小选项
  • 标准光谱范围为450至900nm

OptoMask OC简介

快速裁剪模式

OptoMask是具有光学中心孔径控制的C-mount设备,用于高速裁剪模式成像。 OptoMask专门设计用于在Andor 897和888相机上使用Optical Centered(OC)裁剪模式,并在Photometrics Delta上使用光速模式。 该设备使用单个消色差三重透镜来最大限度地减少损耗,并结合了一个快速方便的机制,通过单个控制将屏幕尺寸从全芯片调整到几个像素。 包括预设标记,以设置1024和512传感器的有用帧大小。

所有的OptoMask产品都使用定制的消色差透镜,其抗反射涂层为425nm至875nm。

 

 

 

 

 

应用

  • 快速钙和电压敏感染料测量
  • 使用广场荧光的动力学研究
  • 超分辨率PALM / STORM / SIM
  • 高速TIRF
  • 旋转盘共焦

主要优点

  • 同一台相机实现高帧速率和高空间分辨率
  • 紧凑,符合人体工程学
  • 425nm – 875nm传输标准,其他波长范围可定制
  • 准确掩蔽相机传感器以减少散射光
  • 适用于512 x 512 + 1024 x 1024像素的EM CCD
  • 固定的光学中心使得屏蔽区域变化非常简单
  • 具有高通量的三重透镜

相关产品

联系我们

在线咨询:点击这里给我发消息

邮件:sales@uhightech.com