化学气相沉积CVD
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  • MPCNT-Premium

简介

MPCNT化学气相沉积CVD 是使用乙醇作为碳源的微型、简化碳纳米管(CNT)合成系统。乙醇是用于生产碳纳米管CNT的非常方便的材料。它不需要像甲烷或乙炔气这样的可燃气瓶,并且允许在任何地方进行 碳纳米管CNT合成实验。

MPCNT化学气相沉积CVD系统不需要使用还原气(氢气)来还原催化剂,因为乙醇还具有很强的金属还原作用。 由于合金中的Ni,Fe或Co催化元素作为催化颗粒被隔离,乙醇的还原作用使CNT可以直接在NiCu,SUS等合金材料上生长,而无需沉积催化剂薄膜。

使用MPCNT化学气相沉积CVD系统,可以在各种类型的基板(例如硅,石英,不锈钢,金属和陶瓷)上生长高度结晶、垂直排列的碳纳米管CNT。设备的外形尺寸与个人计算机一样紧凑。操作简单,整个过程仅需20至30分钟。透明的玻璃室可以直接观察碳纳米管CNT的生长过程。该系统适用于大学实验室的碳纳米管CNT合成实验。

*注意:在碳纳米管CNT生长之前,应在基材上沉积一层薄的催化剂膜。如果客户没有催化膜形成系统(例如真空沉积设备或溅射系统),建议使用我们的MPCNT-Premium化学气相沉积CVD 系统,它是一个完整的系统,涵盖了从催化剂形成到碳纳米管CNT生长或功能强大的一系列过程真空沉积设备MPVAP。我们也提供具有催化膜的基材(消耗品)。

化学气相沉积CVD
MPCNT-Basic的主要部件

台式化学气相沉积CVD系统的基本模型旨在让研究人员仅使用乙醇液体(不使用任何烃类气体)作为碳源,在衬底(硅、石英、金属、陶瓷)上生长垂直排列的碳纳米管CNT,从而获得高度结晶的碳纳米管CNT。 台式化学气相沉积CVD系统可以安装在任何地方,即使在无法储存氢气(例如C2H2或C2H4)的实验室中。

化学气相沉积CVD
硅衬底上垂直排列的CNT

特征          

  • 配备乙醇注入装置,不需要易燃的烃类气体
  • 碳纳米管CNT生长仅需几分钟,整个操作过程不到30分钟
  • 结构紧凑、操作简单、高质量的碳纳米管CNT

技术参数

化学气相沉积CVD

简介

台式MPCNT-Premiun化学气相沉积CVD系统的高级型号配备了多气体引入单元和催化剂前体加热灯丝,设计用于在粉末和垂直排列的薄膜中生长长(>200μm)的碳纳米管,以及镍箔上的石墨烯薄膜。

小尺寸、高性能MPCNT-Premiun化学气相沉积碳纳米管CNT合成系统是MPCNT-Basic的增强版本,具有先进的功能,例如催化剂前体加热机制和多种气体引入机制。它能够在基材上大量合成垂直排列的碳纳米管CNT和粉末碳纳米管CNT。

催化前体加热机制是MPCNT-Premiun化学气相沉积CVD系统的标准功能。使用加热的灯丝使催化剂前体升华使得催化剂能够沉积在基底或粉末状催化剂载体材料上,因此不需要单独的催化剂形成设备。这使MPCNT-Premiun化学气相沉积CVD系统成为一个完整的碳纳米管CNT合成系统,可同时实现催化剂的形成和碳纳米管CNT的形成。

而且,加热的灯丝会大量生成活化自由基,并加速碳纳米管CNT的形成。因此可以容易地生成长长度的碳纳米管CNT(长度为50μm-2mm)。

多种气体引入机制也是MPCNT-Premiun化学气相沉积CVD系统的标准功能。该系统可以引入烃气(甲烷、乙烯或乙炔)和氢气,以及乙醇液体。合成的碳纳米管CNT的种类根据原料气体的种类而不同。例如,乙炔气,催化前体和粉末状催化剂载体材料的组合产生粉末形式的长碳纳米管。乙烯气体,Fe/ Co催化膜和少量水的结合产生单壁碳纳米管(Single-WalledCarbon Nanotubes,SWCNTs)。乙醇和铁粉的结合产生碳纳米线圈。

化学气相沉积CVD
MPCNT-Premium的主机
化学气相沉积CVD
垂直排列的长碳纳米管
化学气相沉积CVD
单批生长的长粉末碳纳米管CNT
化学气相沉积CVD
沉积在镍粒子表面的石墨烯(核壳结构)的拉曼光谱

特征           

  • 可以选择多种碳源(乙醇液体和碳氢化合物气体)
  • 配备了用于监控基材温度的辐射温度计
  • 配备了催化剂前体提供单元
  • 粉末状和垂直取向的的碳纳米管CNT都可以合成
  • 可以生产0.5-1g /批的粉末状的碳纳米管CNT
  • 碳纳米管CNT的长度可以达到2mm
化学气相沉积CVD
系统组件图

技术参数

化学气相沉积CVD

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