真空气相沉积
  • MPVAP

简介

MPVAP是用于在基板上沉积金属薄膜的真空沉积设备。

作为一种真空沉积系统,用于各种纳米级厚度的金属膜涂覆基材和样品。该系统还可形成用于生长垂直排列的CNT的催化剂薄膜。

带有涡轮分子泵(TMP)的真空排气系统可创建不需要维护的干净真空环境。该系统只需按一下按钮即可执行全自动真空排气操作;因此,减少了错误操作的可能性,不了解真空系统的用户也可以轻松地将该系统用于实验。系统中的两种蒸气源可以形成多层膜和复合膜。该系统还配备了石英晶体膜厚监测仪,可实时监测和控制0.01 nm的膜厚。

具有360度旋转的立方体的大面积基板支架,将用于放置样品的面积增加了四倍。该系统可以在一个过程中以4种成膜条件生产样品,而不会终止真空状态。

旋转样品架时沉积薄膜可以从所有方向(对角线方向)在三维样品上形成薄膜。在将金属膜涂覆在样品上进行SEM观察的情况下,它的功能可创建清晰的三维SEM图像。

另外,通过使用这种旋转保持器,可以避免与蒸发入口闸板的打开和关闭相关的辐射热波动的问题。从技术上讲,由常用的石英晶体薄膜厚度监视器产生的厚度数据对传感器的温度波动敏感。同时打开和关闭蒸发入口百叶窗会产生从热蒸发坩埚发射到传感器的辐射热波动,从而产生与实际膜厚不同的数据。如果是旋转支架,在蒸发坩埚的温度保持恒定时,可以通过从一开始就打开闸门并旋转立方支架来开始和完成在基板上的沉积。该过程不会在传感器上产生辐射热的波动,并实现了对膜厚的控制。

真空气相沉积
真空气相沉积
真空气相沉积
样品架的旋转

特征

  • 配备360度可旋转立方样品架
  • 在一个过程中实现4种不同的沉积条件,或者可设置4次样品
  • 可以在倾斜方向或在样品的两侧进行沉积
  • 配备了两个坩埚,可进行多层沉积
  • 自动真空排气操作
  • 配备石英晶体膜厚监测仪

MPVAP-VacHolder简介

某些样品(例如纯金属)应远离空气,因为它们会与空气中的氧气发生反应。在一些应用中,需要在真空沉积设备中将这些类型的材料或设备用金属膜涂覆而不暴露于空气。

为了实现这些应用,应将样品放在装有惰性气体的手套箱中的样品架上,并在将样品转移到真空沉积设备中的同时保持真空。

MPVAP-VacHolder 是一种特殊的真空样品架,用于将样品放置在手套箱中,而不会将样品暴露于湿气或氧气中。可以将真空保持器腔室中的样品转移到真空沉积设备(MPVAP)中,然后在真空中涂上金属薄膜。

真空气相沉积
真空气相沉积

特征          

  • 样品架嵌入真空室中
  • 体积小巧,可轻松转移至杂物箱
  • 支架腔可在手套箱中抽空
  • 保持室的盖在真空沉积设备中自动打开
  • 可以添加样品架360度旋转功能

MPVAP-Powder简介

真空沉积设备是一种流行的工具,用于在基板,设备或物体上沉积金属薄膜。在大多数情况下,源坩埚位于下方,而样品架位于上方。

在某些应用中,粉末样品需要与金属薄膜一起沉积。在这种情况下,样品应位于下方。为了能够在粉末样品上进行沉积,开发了真空沉积设备MPVAP-Powder。在该设备中,源材料的坩埚位于样品架上方,并且源从上到下蒸发。在沉积过程中,位于下方的样品容器会连续振动,从而搅拌样品粉末并实现均匀沉积。

真空气相沉积
真空气相沉积
真空气相沉积
在白色微橡胶球上沉积铜膜的应用实例

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